محبوبترینها
نمایش جنگ دینامیت شو در تهران [از بیوگرافی میلاد صالح پور تا خرید بلیط]
9 روش جرم گیری ماشین لباسشویی سامسونگ برای از بین بردن بوی بد
ساندویچ پانل: بهترین گزینه برای ساخت و ساز سریع
خرید بیمه، استعلام و مقایسه انواع بیمه درمان ✅?
پروازهای مشهد به دبی چه زمانی ارزان می‌شوند؟
تجربه غذاهای فرانسوی در قلب پاریس بهترین رستوران‌ها و کافه‌ها
دلایل زنگ زدن فلزات و روش های جلوگیری از آن
خرید بلیط چارتر هواپیمایی ماهان _ ماهان گشت
سیگنال در ترید چیست؟ بررسی انواع سیگنال در ترید
بهترین هدیه تولد برای متولدین زمستان: هدیه‌های کاربردی برای روزهای سرد
در خرید پارچه برزنتی به چه نکاتی باید توجه کنیم؟
صفحه اول
آرشیو مطالب
ورود/عضویت
هواشناسی
قیمت طلا سکه و ارز
قیمت خودرو
مطالب در سایت شما
تبادل لینک
ارتباط با ما
مطالب سایت سرگرمی سبک زندگی سینما و تلویزیون فرهنگ و هنر پزشکی و سلامت اجتماع و خانواده تصویری دین و اندیشه ورزش اقتصادی سیاسی حوادث علم و فناوری سایتهای دانلود گوناگون
مطالب سایت سرگرمی سبک زندگی سینما و تلویزیون فرهنگ و هنر پزشکی و سلامت اجتماع و خانواده تصویری دین و اندیشه ورزش اقتصادی سیاسی حوادث علم و فناوری سایتهای دانلود گوناگون
آمار وبسایت
تعداد کل بازدیدها :
1830284853
ساخت پوشش سرامیکی بدون ترک کاربردی در صنعت الکترونیک توسط محققان دانشگاهی
واضح آرشیو وب فارسی:ایسنا: شنبه ۲۷ اردیبهشت ۱۳۹۳ - ۰۹:۳۳
محققان دانشگاه صنعتی شریف با همکاری پژوهشکده لیزر و اپتیک، موفق به ساخت پوشش سرامیکی عاری از ترک شدند که نانوساختار و متراکم بوده و به کمک روشی ارزان و ساده قابل تولید است. به گزارش سرویس علمی ایسنا، روح‌الله عشیری، دانشجوی دکترای مهندسی مواد دانشگاه صنعتی اصفهان و محقق طرح اظهار کرد: تیتانات باریم یک سرامیک اکسیدی است که خواص متنوع و مطلوبی نظیر ضریب دی‌الکتریک بالا و تلفات الکتریکی کم، سبب شده تا این ماده مهم‌ترین جزء جهت ساخت خازن‌های سرامیکی بویژه خازن‌های چندلایه سرامیکی (MLCC) باشد. وی افزود: علاوه بر آن، تیتانات باریم یکی از مهم‌ترین اجزای ساخت ردیاب‌های فرو سرخ، دستگاه‌های الکترواپتیک، حافظه‌های فروالکتریک و حسگرهای دمایی، رطوبتی و گاز است. در این پژوهش تلاش شده است تا پوشش‌های بسیار نازک تیتانات باریم بدون ترک از طریق فرآیند سل-ژل تولید شود. عشیری خاطرنشان کرد: پوشش تولید شده بسیار نازک و نانوساختار است و ضخامت آن به حدود 30 نانومتر می‌رسد. به دلیل عاری بودن از ترک سطح، عملکرد این پوشش نظیر گذردهی نوری و یا ظرفیت خازن‌های چندلایه ساخته شده از آن افزایش چشمگیری داشته است. همچنین افزایش طول عمر پوشش و در نتیجه کاهش هزینه‌های تولیدی از دیگر مزایای پوشش تولید شده در آن است. از این روش می‌توان بعنوان یک راهکار کلی برای ساخت پوشش‌های فوق‌العاده نازک، نانوساختار و عاری از ترک استفاده کرد. محقق طرح خاطرنشان کرد: به دلیل ماهیت فرآیند سل- ژل، محصولات آن عمدتاً بی‌شکل (آمورف) است و ساختار کریستالی ندارند. همچنین درصد عمده‌ای از وزن محصول اولیه مربوط به ترکیبات فرار است. برای رسیدن به ساختار کریستالی باید این محصولات را خشک و در ادامه کلسینه کرد. اما طی این مراحل، با خروج ترکیبات فرار و انقباض پوشش، معمولاً در آن ترک بوجود آمده و تخلخل پوشش افزایش می‌یابد. چالشی که سال‌هاست پیش روی جامعه علمی وجود دارد، تهیه پوشش‌های متراکم و عاری از ترک است. وی در ادامه افزود: در این طرح دریافتیم که برای تولید پوشش‌های عاری از ترک، قبل از خشک کردن، باید یک مرحله کنترل شده را اعمال کرد. در این مرحله، ابتدا پوشش در یک محیط بسته و در فشار بخار تعادلی سل قرار داده می‌شود تا به آرامی ترکیبات فرار آن خارج شود؛ با این روش از ترک خوردگی در آن جلوگیری می‌شود. در ادامه، پوشش تحت عمل خشک کردن و پختن قرار می‌گیرد. با این روش می‌توان به پوشش‌های متراکم و عاری از ترک که در عین حال بسیار نازک و نانوساختار نیز هستند، دست یافت. عشیری با بیان این که صنایع مختلفی نظیر الکترونیک، اپتیک و فتونیک می‌توانند از نتایج این طرح بهره‌مند شوند، گفت: با توجه به اینکه روش اصلاحی معرفی شده در این تحقیق، صرفاً با افزودن یک مرحله به فناوری‌های قبلی قابل اجراست، به سادگی قابلیت تجاری شدن دارد. وی افزود: دمای پایین فرایند تولید، همگن بودن در مقیاس اتمی، کنترل ساده میزان محصولات مد نظر و نبود آلودگی و ناخالصی در محصولات، از مزایای روش سل-ژل در ساخت این پوشش است. وی یادآور شد: همانگونه که ذکر شد، در این طرح نشان داده شده است که روش معرفی شده، موجب بهبود قابل ملاحظه درصد عبور نوری پوشش‌ها می‌شود. برای توضیح این ویژگی باید گفت وجود ترک‌ها، زبری سطح را افزایش می‌دهد و در اثر این افزایش زبری، میزان تلفات نوری پوشش (از طریق جذب و انعکاس) نیز افزایش می‌یابد. عشیری گفت: همچنین با ناهموار شدن پوشش، سطح واقعی پوشش (Real Area) را در مقایسه با سطح تصویر شده (Projected Area) یا به بیان دیگر سطح زیرلایه افزایش یافته و به این ترتیب تلفات نوری بیشتر می‌شود. با تولید پوشش عاری از ترک روی سطح، این مشکلات رفع شده است. نتایج این تحقیق که به درخواست پژوهشکده لیزر و اپتیک انجام شده و حاصل همکاری روح‌الله عشیری، دکتر علی نعمتی عضو هیات علمی دانشگاه صنعتی شریف و دکتر مرتضی ساسانی قمصری استادیار پژوهشکده لیزر و اپتیک تهران است، در مجله Ceramics International انتشار یافته است. انتهای پیام
کد خبرنگار:
این صفحه را در گوگل محبوب کنید
[ارسال شده از: ایسنا]
[مشاهده در: www.isna.ir]
[تعداد بازديد از اين مطلب: 41]
-
گوناگون
پربازدیدترینها