تور لحظه آخری
امروز : سه شنبه ، 12 تیر 1403    احادیث و روایات:  پیامبر اکرم (ص):وقتى مردى به همسر خود نگاه كند و همسرش به او نگاه كند خداوند بديده رحمت به آنان نگ...
سرگرمی سبک زندگی سینما و تلویزیون فرهنگ و هنر پزشکی و سلامت اجتماع و خانواده تصویری دین و اندیشه ورزش اقتصادی سیاسی حوادث علم و فناوری سایتهای دانلود گوناگون شرکت ها

تبلیغات

تبلیغات متنی

اتاق فرار

خرید ووچر پرفکت مانی

تریدینگ ویو

کاشت ابرو

لمینت دندان

ونداد کولر

صرافی ارکی چنج

صرافی rkchange

دانلود سریال سووشون

دانلود فیلم

ناب مووی

رسانه حرف تو - مقایسه و اشتراک تجربه خرید

سرور اختصاصی ایران

تور دبی

دزدگیر منزل

تشریفات روناک

اجاره سند در شیراز

قیمت فنس

armanekasbokar

armanetejarat

صندوق تضمین

پیچ و مهره

طراحی کاتالوگ فوری

دانلود کتاب صوتی

تعمیرات مک بوک

Future Innovate Tech

آموزشگاه آرایشگری مردانه شفیع رسالت

پی جو مشاغل برتر شیراز

قیمت فرش

آموزش کیک پزی در تهران

لوله بازکنی تهران

کاشت پای مصنوعی

میز جلو مبلی

پراپ رابین سود

هتل 5 ستاره شیراز

آراد برندینگ

رنگ استخری

سایبان ماشین

قالیشویی در تهران

مبل استیل

بهترین وکیل تهران

شرکت حسابداری

نظرسنجی انتخابات 1403

استعداد تحلیلی

کی شاپ

خرید دانه قهوه

دانلود رمان

وکیل کرج

آمپول بیوتین بپانتین

پرس برک

بهترین پکیج کنکور

خرید تیشرت مردانه

خرید نشادر

خرید یخچال خارجی

وکیل تبریز

اجاره سند

وام لوازم خانگی

نتایج انتخابات ریاست جمهوری

خرید سی پی ارزان

خرید ابزار دقیق

بهترین جراح بینی خانم

 






آمار وبسایت

 تعداد کل بازدیدها : 1803607250




هواشناسی

نرخ طلا سکه و  ارز

قیمت خودرو

فال حافظ

تعبیر خواب

فال انبیاء

متن قرآن



اضافه به علاقمنديها ارسال اين مطلب به دوستان آرشيو تمام مطالب
 refresh

ساخت آزمایشگاهی نانوفیلم اکسید روی با دستگاه پلاسمای کانونی در کشور


واضح آرشیو وب فارسی:ایسنا: یکشنبه ۱۰ آبان ۱۳۹۴ - ۱۰:۱۲




1432889076335_dermatological-rd.jpg

پژوهشگران واحد علوم و تحقیقات دانشگاه آزاد اسلامی به منظور ایجاد فیلم‌های نانوساختار از روشی استفاده کرده‌اند که در زمان اندک و در دمای محیط قادر به تولید این فیلم‌هاست؛ در این تحقیقات اثر ضخامت بر خواص الکترونیکی و نوری این فیلم‌ها مورد بررسی قرار گرفته است. به گزارش سرویس فناوری ایسنا، محمدتقی حسین‌نژاد، محقق و دانشجوی دکترای واحد علوم و تحقیقات دانشگاه آزاد در رابطه با این پروژه گفت: در دهه‌های گذشته نانو ساختارها و لایه‌های نازک اکسید روی به دلیل ویژگی‌های مناسب توجه زیادی را به خود معطوف کرده‌اند. اکسید روی یک گزینه مطلوب برای دستگاه‌های نوری با طول موج کوتاه است. همچنین ساختارهای مبتنی بر اکسید روی در حوزه‌های مختلف همانند آشکارسازهای UV، حسگرها، فیلترها و سلول‌های خورشیدی نیز به کار می‌روند. وی با بیان اینکه انواع زیادی از روش‌ها برای ساخت فیلم‌های نازک اکسید روی استفاده شده است که از جمله آنها می‌توان به رسوب لیزر پالسی، رسوب لیزر اتمی، رسوب بخار شیمیایی و سل - ژل اشاره کرد، ادامه داد: این پژوهش‌ها به منظور بررسی اثر روش ساخت و عوامل دخیل در آن بر خواص ساختاری، ظاهری، نوری و الکتریکی فیلم‌های نازک اکسید روی انجام شده است. در این تحقیق، تلاش شده تا تولید فیلم‌ نازک اکسید روی در دمای محیط با استفاده از دستگاه پلاسمای کانونی (Plasma Focus) مورد ارزیابی قرار گیرد. به گفته حسین‌نژاد، استفاده از دستگاه پلاسمای کانونی (PF) به منظور رشد لایه‌های نازک روشی است که به تازگی مورد توجه محققان قرار گرفته است. این روش بر اساس کندوپاش نانوذرات روی (Zn) و برهمکنش‌های شیمیایی آنها با یون‌های اکسیژن حاصل از فروپاشی پلاسمای داغ اکسیژن است که در دستگاه پلاسمای کانونی تولید می‌شود. وی در ادامه در خصوص مزایای این روش افزود: یکی از ویژگی‌های منحصر به فرد رشد لایه‌های نازک با استفاده از دستگاه پلاسمای کانونی، عدم نیاز به گرم کننده به منظور گرم کردن زیرلایه است. ضمناً رشد لایه با ضخامت دلخواه و چسبندگی قابل توجه در زمان اندک، از دیگر مزایای این روش محسوب می‌شود. در بسیاری از روش‌های دیگر لایه نشانی، این امر جزو مشکلات فرایند رشد لایه محسوب می‌شود. وی تصریح کرد: در این تحقیق لایه‌های اکسید روی با ضخامت‌های مختلف رشد داده شده‌اند و اثر تغییرات ضخامت بر خواص ساختاری، ظاهری، نوری و الکتریکی این لایه‌ها بررسی شده است. خواص ذکر شده به کمک روش‌های XRD، SEM و AFM مورد ارزیابی قرار گرفته است. در واقع یکی از مهم‌ترین اهداف ما در این طرح، امکان سنجی رشد لایه‌های اکسید روی با استفاده از این روش بوده است. به گفته این محقق واحد علوم و تحقیقات، نتایج این تحقیقات نشان داده که با استفاده از این روش می‌توان لایه‌های نازک اکسید روی را با ضخامت دلخواه روی سطح رشد داد. چسبندگی بسیار بالای لایه‌ها به علت انرژی بسیار بالای یون‌ها در حین فرایند لایه نشانی رخ داده است. همچنین با تغییر در تعداد شات‌ها، خواص لایه‌ها متفاوت می‌شود. این در حالی است که آزمون‌های مرتبط با خواص نوری و الکتریکی لایه نشان می‌دهد که با افزایش تعداد شات‌ها، رسانندگی الکتریکی و پهنای انرژی دستخوش تغییرات چشمگیری می‌شوند. حسین نژاد معتقد است از آنجا که در این روش ذرات یونی و اتمی با انرژی بسیار بالایی با سطح زیرلایه برخورد می‌کنند، می‌توان از آن برای برخی محصولات میکروالکترونیک که نیازمند کاشت یون با انرژی و عمق نفوذ بالایی هستند، استفاده کرد. همچنین این روش به دلیل کندوپاش با حجم زیاد و زمان بسیار اندک می‌تواند به منظور رشد لایه‌های ضخیم نیز به کار رود. این تحقیقات حاصل همکاری محمدتقی حسین نژاد، دانشجوی دکترای فیزیک پلاسما، مرضیه شیرازی دانشجوی دکترای مهندسی فناوری نانو، دکتر محمود قرآن‌نویس رئیس مرکز تحقیقات فیزیک پلاسمای واحد علوم و تحقیقات، دکتر محمدرضا حنطه زاده و دکتر الهام دارابی از اعضای هیات علمی واحد علوم و تحقیقات دانشگاه آزاد اسلامی است. انتهای پیام
کد خبرنگار:







این صفحه را در گوگل محبوب کنید

[ارسال شده از: ایسنا]
[مشاهده در: www.isna.ir]
[تعداد بازديد از اين مطلب: 56]

bt

اضافه شدن مطلب/حذف مطلب







-


علم و فناوری

پربازدیدترینها
طراحی وب>


صفحه اول | تمام مطالب | RSS | ارتباط با ما
1390© تمامی حقوق این سایت متعلق به سایت واضح می باشد.
این سایت در ستاد ساماندهی وزارت فرهنگ و ارشاد اسلامی ثبت شده است و پیرو قوانین جمهوری اسلامی ایران می باشد. لطفا در صورت برخورد با مطالب و صفحات خلاف قوانین در سایت آن را به ما اطلاع دهید
پایگاه خبری واضح کاری از شرکت طراحی سایت اینتن