تبلیغات
تبلیغات متنی
آموزشگاه آرایشگری مردانه شفیع رسالت
دکتر علی پرند فوق تخصص جراحی پلاستیک
بهترین دکتر پروتز سینه در تهران
محبوبترینها
راهنمای انتخاب شرکت‌های معتبر باربری برای حمل مایعات در ایران
چگونه اینورتر های صنعتی را عیب یابی و تعمیر کنیم؟
جاهای دیدنی قشم در شب که نباید از دست بدهید
سیگنال سهام چیست؟ مزایا و معایب استفاده از سیگنال خرید و فروش سهم
کاغذ دیواری از کجا بخرم؟ راهنمای جامع خرید کاغذ دیواری با کیفیت و قیمت مناسب
بهترین ماساژورهای برقی برای دیسک کمر در بازار ایران
بهترین ماساژورهای برقی برای دیسک کمر در بازار ایران
آفریقای جنوبی چگونه کشوری است؟
بهترین فروشگاه اینترنتی خرید کتاب زبان آلمانی: پیک زبان
با این روش ساده، فروش خود را چند برابر کنید (تست‌شده و 100٪ عملی)
خصوصیات نگین و سنگ های قیمتی از نگاه اسلام
صفحه اول
آرشیو مطالب
ورود/عضویت
هواشناسی
قیمت طلا سکه و ارز
قیمت خودرو
مطالب در سایت شما
تبادل لینک
ارتباط با ما
مطالب سایت سرگرمی سبک زندگی سینما و تلویزیون فرهنگ و هنر پزشکی و سلامت اجتماع و خانواده تصویری دین و اندیشه ورزش اقتصادی سیاسی حوادث علم و فناوری سایتهای دانلود گوناگون
مطالب سایت سرگرمی سبک زندگی سینما و تلویزیون فرهنگ و هنر پزشکی و سلامت اجتماع و خانواده تصویری دین و اندیشه ورزش اقتصادی سیاسی حوادث علم و فناوری سایتهای دانلود گوناگون
آمار وبسایت
تعداد کل بازدیدها :
1869557110
تولید نسل جدید ترانزیستورها با نانوسیم کواکسیال
واضح آرشیو وب فارسی:ایسنا: دوشنبه ۲۶ بهمن ۱۳۹۴ - ۱۱:۲۳
یک تیم تحقیقات بین‌المللی با استفاده از ساختار هسته‌ای - پوسته‌ای از جنس سیلیکون و ژرمانیوم موفق به تولید قطعه‌ای شدند که سرعت حرکت الکترون در آن بالا بوده و می‌تواند به عنوان نسل جدید ترانزیستورها استفاده شود. به گزارش سرویس فناوری ایسنا، یک گروه تحقیقاتی از مؤسسه ملی علوم مواد (NIMS) ژاپن با همکاری محققانی از مؤسسه فناوری جرجیا موفق به ساخت نانوسیم چند لایه‌ای شدند که دارای هسته‌ای از جنس ژرمانیوم و پوسته‌ای از جنس سیلیکون است. این ماده به منظور ساخت ترانزیستورهای سریع ساخته شده است. علاوه بر این، محققان این پروژه لایه سیلیکونی و ژرمانیومی را که دارای ناخالصی است تغییر ساختار داده‌اند تا عملکرد سیستم بهبود یابد. با این کار مشکل پراش الکترون به دلیل وجود ناخالصی رفع می‌شود نتایج این پروژه گامی به سوی ساخت ترانزیستورهای پرسرعت است. در حال حاضر پیشرفت‌های زیادی روی ترانزیستورهای اثر میدان اکسید فلزی نیمه‌هادی (MOSFETs) انجام شده است. با این حال این ترانزیستورها در حال رسیدن به محدوده نهایی رشد خود هستند و باید نسل جدیدی از این ادوات را تولید کرد. برای این کار محققان به جای تولید ساختارهای دو بعدی، اقدام به ارائه راهبردی برای تولید ساختارهای سه بعدی کردند. استفاده از نانوسیم‌های نیمه‌هادی به عنوان کانال، ایده اصلی این روش جدید است. مشکل اصلی در این ایده آن است که زمانی که از یک نانوسیم با قطر کمتر از 20 نانومتر استفاده می‌شود، وجود ناخالصی به شدت می‌تواند روی پراش الکترون اثرگذار شود با این کار قدرت انتقال الکترون در نانوسیم کاهش می‌یابد. در این پروژه محققان موفق شدند نانوسیمی با ساختار هسته - پوسته ارائه کنند که دارای کانال انتقال الکترون با سرعت بالاست. این گروه تحقیقاتی با تقویت ساختار نانوسیم علاوه بر کاهش پراش ناخواسته مقدار حاملین بار را نیز افزایش دادند. از آنجایی که در ساخت این نانوسیم تنها از سیلیکون و ژرمانیوم استفاده شده است، تولید آن کم هزینه خواهد بود. این گروه تحقیقاتی در حال ساخت ترانزیستوری با استفاده از این ساختار هستند. نتایج این پژوهش در قالب مقاله‌ای با عنوان Clear experimental demonstration of hole gas accumulation in Ge/Si core-shell nanowires در نشریه ACS Nano منتشر شده است. انتهای پیام
این صفحه را در گوگل محبوب کنید
[ارسال شده از: ایسنا]
[مشاهده در: www.isna.ir]
[تعداد بازديد از اين مطلب: 81]
-
علم و فناوری
پربازدیدترینها