واضح آرشیو وب فارسی:تبیان: روشهاي توليد نانولولههاي کربني؛ روش رسوب شيميايي فاز بخار (CVD)
![نانولوله هاي کربني](http://img.tebyan.net/big/1387/09/817986208877912811621710924411313113551227.jpg)
1. رسوب شيميايي فاز بخار (CVD) روش رسوب شيميايي فاز بخار مستلزم رسوبگذاري مادهي شامل نانوذرات از فاز گازي است. ماده آنقدر گرم ميشود تا به صورت گاز درآيد و سپس به صورت يک ماده جامد بر روي سطح، معمولاً تحت خلأ رسوبگذاري ميگردد. ممکن است رسوبگذاري مستقيم يا رسوبگذاري از طريق واکنش شيميايي، محصول تازهاي را به وجود آورد که با مادهي تبخير شده تفاوت زيادي داشته باشد. اين فرآيند به آساني نانوپودرهايي از اکسيدها و کاربيدهاي فلزات را پديد ميآورد، مشروط بر اينکه بخارات کربن يا اکسيژن همراه با فلز در محيط وجود داشته باشد. رسوبگذاري شيميايي فاز بخار را، همچنين ميتوان براي رشد سطوح مورد استفاده قرار داد. جسمي که قرار است پوشش داده شود در مجاورت با بخار شيميايي قرار داده ميشود. نخستين لايه از مولکولها يا اتمها ممکن است با سطح واکنش دهد يا واکنش ندهد. در هر صورت، اين گونههاي در حال رسوبگذاري که براي اولين بار تشکيل شدهاند، به عنوان بستري که ماده بر روي آن ميتواند رشد کند، عمل ميکنند. ساختارهاي پديد آمده از اين مواد، اغلب در يک رديف در کنار هم به خط ميشوند، زيرا مسيري که اتمها و مولکولها در طي آن رسوبگذاري گرديدهاند، تحت تأثير مولکولها يا اتمهاي همسايهي آنها قرار ميگيرد. اگر بستر يا سطح پايهي ميزبان که رسوبگذاري بر روي آن انجام شده است، فوقالعاده مسطح باشد، رشد سطحي به بهترين وجه انجام ميشود. در حين رسوبگذاري، مکاني براي بلوري شدن در امتداد محور رسوبگذاري ممکن است تشکيل شود، به طوري که ساختار منظم شده و به خط شده به شکل عمودي رشد ميکند. اين موضوع به صورت طرحي در شکل (1- الف) نشان داده شده است و با يک ساختار واقعي تشکيل شده از نانولولههاي کربني در شکل (1- ب) مقايسه شده است. از شکل هاي (1- الف و ب) ميتوان ديد که خواص سطح در طول محور Z نسبت به صفحه X و Y بسيار متفاوت خواهد بود. اين باعث ميشود که ويژگيهاي سطح، منحصر به فرد و بي نظير باشد.
![شکل 1. الف: مدل فرضي](http://img.tebyan.net/big/1387/09/2083015306923226112531441591262421215220.jpg)
![ب: نانولولههاي کربني به خط شده که در کنار هم قرار گرفتهاند](http://img.tebyan.net/big/1387/09/21184128338618510722918242213281741406069.jpg)
2. توليد نانولولههاي کربني به روش CVDروش CVD از ديگر روشهاي توليد نانولولههاي کربني است که براي توليد انبوه (در حد چند کيلوگرم) به کار ميرود. اين روش شامل رشد کاتاليزوري عنصر کربن در دماي بالاست. در اين فرآيند از نانوذرات فلزي که به عنوان کاتاليست عمل ميکنند، استفاده ميشود. منبع تأمين کربن ترکيباتي مانند مونوکسيد کربن، هيدروکربنهاي آروماتيک مانند بنزن، تولوئن، زايلن، نفتالن، يا مخلوطي از آنها و نيز هيدروکربنهاي غيرآروماتيک مانند متان، اتان، پروپان، اتيلن، پروپيلن، استيلن يا مخلوطي از آنها و همچنين هيدروکربنهاي اکسيژندار از قبيل فرمالدئيد، استالدئيد، متانول، اتانول يا مخلوطي از آنهاست. کاتاليزورهاي مورد استفاده متفاوت بوده اما حداقل حاوي يک فلز از گروه VIII جدول تناوبي عناصر نظير پالاديم، روديم، روتنيم، نيکل، کبالت، پلاتين و حداقل حاوي يک فلز از گروه VIb جدول تناوبي نظير موليبدن، تنگستن و کروم هستند. دستگاه توليد نانولولههاي کربني به روش رسوب شيميايي بخار در شکل 2 نشان داده شده است. مطابق شکل، مخلوطي از گازهاي هيدروکربني و گاز آرگون (براي محافظت از آلودگي) وارد کورهاي شده و در آنجا پس از انجام واکنشهاي شيميايي، نانولولههاي کربني روي مادهي زيرلايه رسوب ميکنند. مواد فلزي کاتاليزوري روي مادهي زيرلايه قرار دارند.
![شکل 2. دستگاه توليد نانولوله کربني به روش رسوب شيميايي فاز بخار](http://img.tebyan.net/big/1387/09/671261481714215464139347243195101198232215.jpg)
3. مراحل توليدتوليد نانولولههاي کربني تکديواره به روش رسوبدهي شيميايي فاز بخار شامل دو مرحلهي اساسي: 1)توليد کاتاليست و 2)انجام فرايند توليد است. در ابتدا فلز کاتاليست را درون يک مادهي زمينه توزيع ميکنند. پس از توليد کاتاليست در مرحله دوم از روش رسوبدهي شيميايي بخار استفاده ميشود. معمولاً کاتاليزور تهيه شده و مجموعه در داخل يک کورهي استوانه اي مطابق شکل 2 قرار داده ميشود. سپس همراه با عبور گاز بياثر، دماي کوره تا حد موردنظر افزايش داده ميشود. در ادامه، با قطع جريان گاز بياثر، گاز هيدروژن با جريان مشخص و براي مدت زمان دلخواه در راکتور جريان يافته و سنتز نانولولههاي کربني بر روي کاتاليست صورت ميگيرد. پس از گذشت زمان مورد نياز، جريان گاز هيدروکربن قطع و جريان گاز بياثر مجدداً برقرار ميگردد و کوره تا دماي اتاق سرد ميشود. انجام اين فرآيند معمولاً به توليد همزمان نانولولههاي کربني تکديواره و چندديواره منتهي ميگردد. در سالهاي اخير، با اصلاح شرايط فرآيند، توليد نانولولههاي کربني تکديواره حتي با خلوص بالاتر از 90% امکانپذير شده است. CVD:Chemical Vapor Depositionگردآوري: مريم ملکدار منابع:1. A. M. Cassell, J. A. Raymakers, J. Kong, H. Dai, Phys. Chem: B 103 (1999) 92. 2. G. Ortega, G. Rueda, J. Ortiz, “Catalytic CVD production of carbon nanotubes using ethanol, Microelectronics 36 (2005) 1. 3. S. Chiasi, Y. Murakami, Y. Miyauchi, S. Murayama, “Cold wall CVD generation of single-walled carbon nanotubes and in situ raman scattering measurements of the growth stage, Chem. Phys. Lett. 386 (2004) 89. 4. V. Ivanov, J. B. Nagy, P. H. Lambin, A. Lucas, X. B. Zhang, X. F. Zhang, D. Bemaerts, G. Van Tendeloo, S. Amelinckx, J. Van Landuyt, “The study of carbon nanotubes produced by catalytic method, Chem. Phys. Lett. 223 (1994) 329.
این صفحه را در گوگل محبوب کنید
[ارسال شده از: تبیان]
[مشاهده در: www.tebyan.net]
[تعداد بازديد از اين مطلب: 2208]