واضح آرشیو وب فارسی:سایت ریسک: SAMSUNG I3002nd May 2007, 07:58 PMتکنولوژی ساخت پیوندها مبحث بسیار گستردهای است که دانش و تجربه گروههای تحقیقاتی و تولیدی متعددی را در این زمینه در بر میگیرد. با این وجود بدون سعی در تشریح دقیق این روشهای ساخت ، میتوان برخی از روشهای بنیادی تشکیل پیوندها و زدن اتصالات مناسب به آنها را مورد بررسی قرار داد. کاربران ثبت نام کرده قادر به مشاهده لینک می باشند ساخت پیوندهای p - n پیوندهای رشد یافته یکی از روشهای اولیه ساخت پیوند ، روش پیوند رشد یافته است. در این روش حین رشد بلور ، نوع ناخالصی در ماده مذاب بهصورت ناگهانی عوض میشود. این روش ابتدایی رشد پیوند ، توسط روشهای انعطافپذیرتری که در آنها پیوند بعد از رشد بلور ایجاد میشود، جایگزین شده است. البته یک استثنا مهم در این مورد رشد رونشستی پیوندهای p - n است که بطور گسترده در مدارهای مجتمع و سایر کاربردها استفاده میشود. پیوندهای آلیاژی یک روش مناسب برای ساخت پیوندهای p - n ، آلیاژ کردن یک فلز حاوی اتمهای ناخالصی روی نیم رسانایی با ناخالصی مخالف است. این روش در دهه 1950 برای تولید دیود و ترانزیستور مورد استفاده قرار گرفت. به این منظور ، نمونهای که جهت آلیاژ انتخاب شده با ماده مورد نظر پوشش داده میشود و بعد از حرارت ، منطقه مذاب ایجاد میشود. با کاهش دما ، ناخالصی ماده پایین میآید و در مرز مشترک یک ناحیه دوباره رشد یافته از بلور ناخالص تشکیل میشود. پیوندهای نفوذی در دهه 1960 روش نفوذی به عنوان یکی از متداولترین روشهای تشکیل پیوند p - n جایگزین روش آلیاژی شد. نفوذ ناخالصیها در یک جامد بر حسب حاملین بار اضافی است. نفوذ نتیجه حرکت تصادفی اتمها بوده و ذرات در جهت کاهش شیب تراکم ناخالصی نفوذ میکنند، البته در اینگونه موارد دما بالاست. بنابراین نفوذ ناخالصیهای آلاینده در یک نیم رسانا بسیاری از اتمهای نیم رسانا را از جای خود در شبکه خارج کرده و مکانهای خالی ایجاد میکند که توسط ناخالصیها پر میشود و بعد از سرد شدن بلور در آنجا میمانند. کاربران ثبت نام کرده قادر به مشاهده لینک می باشند کاشت یون یک جایگزین مناسب برای نفوذ در دماهای بالا کاشت مستقیم یونهای انرژیدار در داخل نیم رسانا است. در این روش پرتوی از یونهای ناخالصی آن چنان شتاب میگیرد که انرژی جنبشی آن میتواند از چندین kev تا چندین Mev متغیر باشد و سپس به سمت سطح نیم رسانا هدایت میشود. اتمهای ناخالصی بعد از ورود به بلور انرژی خود را از طریق برخورد ، به شبکه داده و در یک عمق نفوذ متوسط موسوم به برد کاشت متوقف میگردند. پیوندهای فلز نیم رسانا بسیاری از ویژگیهای سودمند یک پیوند p - n را با تشکیل اتصال مناسب فلز - نیم رسانا میتوان بدست آورد. بدیهی است که چنین رویکردی به دلیل سادگی ساخت آن جالب توجه است. پیوندهای فلز – نیم رسانا در یکسوسازی بسیار سریع مفید میباشند. وقتی که فلزی به نیم رسانایی متصل میشود، انتقال بار تا آنجا ادامه مییابد که ترازهای فرعی در حال تعادل هم سطح شوند. به این منظور ، پتانسیل نیم رسانا نسبت به فلز افزایش مییابد. پتانسیل اتصال از نفوذ الکترونها از نوار رسانش نیم رسانا به فلز جلوگیری میکند. پیوندهای ناهمگون سومین رده مهم از پیوندها شامل پیوند بین نیم رسانای با شبکه تطبیق یافته ولی با شکاف نوار متفاوت است. مرز مشترک بین اینگونه نیم رساناها عاری از نقایص بلوری بوده و میتواند بلورهای پیوستهای شامل یک یا چند پیوند ناهمگون بوجود آورد. قابلیت دسترسی به پیوندهای ناهمگون و ساختارهای چند لایه در نیم رساناهای مرکب افق وسیعی از امکان گسترش قطعات الکترونیک را در پیش رو قرار داده است. در پیوندهای ناهمگون ترازهای فرعی دو نیم رسانا را هم سطح میکنند و یک فضای خالی برای ناحیه گذر در نظر میگیرند، پیوندگاه در نزدیکی طرف با ناخالصی شدیدتر قرار داده میشود. با ثابت نگه داشتن شکاف نواری در هر ماده نواحی نوار هدایت و ظرفیت بهم متصل میشود. کاربران ثبت نام کرده قادر به مشاهده لینک می باشند کاربردها قطعات نیم رسانای p - n در صنعت الکترونیک نقش اساسی دارند. از جمله پیوندهای رشد یافته بویژه در مدارهای مجتمع حایز اهمیت است، چرا که توانسته است مدارهای پیچیده شامل هزاران ترانزیستور ، دیود و مقاومت و خازن را روی یک تراشه نیمه رسانا جای دهد. پیوندهای نفوذی در ساخت IC ها نقش اساسی دارند که امکان ساخت هزاران قطعه با پیوند p - n را در یک تراشه سیلیسیمی با اتصالات داخلی مناسب فراهم میسازد. کاشت یون بخصوص در ساخت مدارهای مجتمع سیلیسیم بسیار مورد توجه است. پیوندهای فلز - نیمه رسانا در یکسوسازی بسیار سریع مفید میباشد و پیوندهای ناهمگون در ترانزیستورهای دو قطبی ، ترانزیستورهای اثر میدانی و لیزرهای نیمه رسانا مورد توجهاند. منبع : inventive kian198325th January 2009, 12:28 AMنیم رساناها معمولاُ اجسام از لحاظ عبور یا عدم عبور الکتریسیته به دو دسته رسانا و عایق تقسیم میشود. اما گروه دیگری از اجسام نیز وجود دارد که نه بطور کامل رسانا و نه بطور کامل نارساناست. این گروه خاص از اجسام را نیم رسانا میگویند. کاربران ثبت نام کرده قادر به مشاهده لینک می باشند انواع نیم رسانا نیم رسانای ذاتی بخش عمده الکترونیک نوین ، وابسته به کاربرد مواد نیرم رسانا است. دیودهای نورگسیل « LEDها) ترانزیستورها و باتریهای خورشیدی از جمله عناصر الکترونیکی متداولی هستند که از نیم رساناها استفاده میکنند. نیم رساناهایی مانند Cds و ورمیلیون (Hgs) رنگهای درخشان دارند و هنرمندان نقاشی ، از آنها استفاده میکنند. آنچه که تعیین کننده خواص الکترونیکی نیم رسانا است گاف انرژی (گاف نواری). بین ظرفیت و نوار و رسانش است. در بعضی مواد مانند Cds این شکاف اندازه ثابتی دارد. این مواد ، نیم رساناهای ذاتی نامیده میشود. هنگامی که نور سفید ، با نیم رسانا برهمکنش میکند الکترونها تحریک شده و به نوار رسانش میروند. Cds ، نور بنفش و تا حدودی نور آبی را در میآشامد. اما انرژی سایر بسامدها ، کمتر از انرژی لازم برای برانگیختن یک الکترون ورای گاف انرژی است. این بسامدها بازتاب مییابند و رنگی که مشاهده میکنیم، زرد است. در برخی نیم رساناها مانند GoAS و Pbs ، گاف نواری ، چنان کوچک است که تمام بسامدهای نور مرئی در آنها دیده میشوند. هیچ نور مرئی بازتابی وجود ندارد و ماده تیره رنگ است. کاربران ثبت نام کرده قادر به مشاهده لینک می باشند نیم رسانای مصنوعی در بیشتر نیم رساناها که غیر ذاتی نامیده میشوند، اندازه گاف نواری ، با افزودن دقیق ناخالصیهایی کنترل میشود، که این فرآیند تقویت نامیده میشود. سیستم عمل تقویت روی سیلیکون یکی از متداولترین نیم رساناهاست. نیم رسانای نوع n وقتی به سیلیکون ، ناخالصی فسفر افزوده شود، تراز انرژی اتمی فسفر ، دقیقا در زیر نوار رسانش سیلیکون قرار میگیرد. هر اتم فسفر ، 4 الکترون از 5 الکترون ظرفیتش را تشکیل نمونه با 4 اتم si مجاور بکار میبرد و انرژی گرمایی به تنهایی کافی است تا باعث شود، الکترون اضافی ظرفیت به نوار رسانش بر انگیخته شده به یک یون p غیر متحرک را بر جای گذارد. اتمهای فسفر ، دهنده نامیده میشود. رسانش الکتریکی در این نوع نیم رسانا عمدتا در اثر حرکت الکترونهای حاصل از اتمهای دهنده در نوار رسانش، به وجود میآید. این نوع نیم رسانا نوع n نامیده میشود که در آن n به معنی منفی است، این نوعی بار الکتریکی که توسط الکترونها حمل میشود. نیم رسانای نوع p وقتی به سیلیکون ناخالص آلومینیم افزوده میشود. تراز انرژی اتمهای AL که اتمهای پذیرنده نامیده میشوند، درست بالای نوار ظرفیت سیلیکون قرار میگیرد. با سه اتم Si مجاور پیوند جفت الکترونی منظمی تشکیل میدهد. اما با چهارمین اتم Si فقط یک پیوند تک الکترونی تشکیل میدهد. یک الکترون به راحتی از نوار ظرفیت یک اتم آلومینیوم در تراز پذیرنده بر انگیخته میشود. در نهایت ، یک یون منفی تا A غیر متحرک بوجود میآمد و در نتیجه این فرآیند یک حفره مثبت در نوار ظرفیت پدیدار میشود. از آنجا که رسانش الکتریکی در این نوع نیم رسانا عمدتا شامل حرکت حفرههای مثبت است این نوع نیم رسانا ، نوع P نامیده میشود. کاربرد نیم رساناها در باطری خورشیدی یک سلول خورشیدی که از نیم رساناها ساخته شده از سیلیکون استفاده میشود. لایه نازکی از نیم رسانای نوع P با یک نیم رسانای نوع n ، در ناحیهای به نام پیوندگاه در تماس است. عمدتا عبور الکترونها و حفرههای مثبت از میان پیوندگاه بسیار محدود است. زیرا چنین حرکتی ، منجر به تفکیک بار میشود: حفرههای سبک ناشی از نیم رسانای نوع p که از پیوندگاه عبور میکنند ناگزیر از یونهای غیر متحرک تا A جدا خواهند شد و الکترونهای ناشی از نیم رسانای نوع n که از پیوندگاه عبور میکنند به ناچار از یونهای غیر متحرک +P جدا میشوند. حال در نظر بگیرید که نیم رسانای نوع p در معرض باریکهای از نور قرار گیرد. الکترونهای واقع در نوار ظرفیت ، میتوانند انرژی ، در آشامیده و همراه با ایجاد حفرههای مثبت در نوار ظرفیت ، به لایه رسانش ارتقاء یابند. الکترونهای رسانش بر خلاف حفرههای مثبت میتوانند به راحتی از پیوندگاه عبور کرده وارد نیم رسانای نوع n شوند. این عمل ، سفارش الکترونها (جریان الکتریکی) را برقرار میکند. الکترونها میتوانند توسط سیمها از میان یک مصرف کننده خارجی مانند لامپها ، موتورهای الکتریکی و … انتقال پیدا کنند و سرانجام به نیم رسانای نوع p باز گردند. جایی که آنها حفرههای مثبت را پر میکنند. سایت ما را در گوگل محبوب کنید با کلیک روی دکمه ای که در سمت چپ این منو با عنوان +1 قرار داده شده شما به این سایت مهر تأیید میزنید و به دوستانتان در صفحه جستجوی گوگل دیدن این سایت را پیشنهاد میکنید که این امر خود باعث افزایش رتبه سایت در گوگل میشود
این صفحه را در گوگل محبوب کنید
[ارسال شده از: سایت ریسک]
[مشاهده در: www.ri3k.eu]
[تعداد بازديد از اين مطلب: 5840]