تبلیغات
تبلیغات متنی
محبوبترینها
ماندگاری بیشتر محصولات باغ شما با این روش ساده!
بارش‌های سیل‌آسا در راه است! آیا خانه شما آماده است؟
بارش‌های سیل‌آسا در راه است! آیا خانه شما آماده است؟
قیمت انواع دستگاه تصفیه آب خانگی در ایران
نمایش جنگ دینامیت شو در تهران [از بیوگرافی میلاد صالح پور تا خرید بلیط]
9 روش جرم گیری ماشین لباسشویی سامسونگ برای از بین بردن بوی بد
ساندویچ پانل: بهترین گزینه برای ساخت و ساز سریع
خرید بیمه، استعلام و مقایسه انواع بیمه درمان ✅?
پروازهای مشهد به دبی چه زمانی ارزان می‌شوند؟
تجربه غذاهای فرانسوی در قلب پاریس بهترین رستوران‌ها و کافه‌ها
دلایل زنگ زدن فلزات و روش های جلوگیری از آن
صفحه اول
آرشیو مطالب
ورود/عضویت
هواشناسی
قیمت طلا سکه و ارز
قیمت خودرو
مطالب در سایت شما
تبادل لینک
ارتباط با ما
مطالب سایت سرگرمی سبک زندگی سینما و تلویزیون فرهنگ و هنر پزشکی و سلامت اجتماع و خانواده تصویری دین و اندیشه ورزش اقتصادی سیاسی حوادث علم و فناوری سایتهای دانلود گوناگون
مطالب سایت سرگرمی سبک زندگی سینما و تلویزیون فرهنگ و هنر پزشکی و سلامت اجتماع و خانواده تصویری دین و اندیشه ورزش اقتصادی سیاسی حوادث علم و فناوری سایتهای دانلود گوناگون
آمار وبسایت
تعداد کل بازدیدها :
1837297788
همکاری مراکز مختلف اروپا برای توسعه فتونیک سیلیکونی
واضح آرشیو وب فارسی:ایسنا: سه‌شنبه ۲۲ دی ۱۳۹۴ - ۱۲:۰۵
چند شرکت و موسسه تحقیقاتی مختلف فعال در حوزه نانوالکترونیک در اروپا، در قالب یک پروژه مشترک اقدام به توسعه فناوری جدیدی در بخش فتونیک سیلیکونی کرده‌اند. به گزارش سرویس فناوری ایسنا، سازمان تحقیقاتی CEA-Leti در فرانسه در قالب پروژه PLAT4M اروپا موفق به توسعه پلت فرم فوتونیک سیلیکونی جدیدی شده است. این پروژه چهار ساله که از سال 2013 راه‌اندازی شده با هدف ایجاد زنجیره در فتونیک سیلیکون، قصد دارد صنعتی شدن این فناوری را تسریع کند. بودجه 10.2 میلیون یورویی این پروژه توسط کمیسیون اروپا تأمین و توسط 15 مؤسسه و شرکت مختلف تأمین می‌شود. این زنجیره براساس پلت فرم‌های فناوری Leti، IMEC و STMicroelectronics تعریف شده است. مؤسسه بلژیکی Imec با استفاده از این پروژه موفق شده است پلت فرم فتونیک سیلیکونی خود را توسعه داده و به بلوغ برساند. این پلت فرم براساس زیرلایه SOI با سیلیکون 220 نانومتری طراحی شده است. در طول این پروژه، فرآیندهای تولید رایج به‌گونه‌ای بهبود می‌یابند که عملکرد تمام بخش‌های واحدهای سازنده فتونیک (جفت کننده‌ها، راهنماهای موج، انتقال‌دهنده‌های فاز و شناساگرهای نوری) ارتقاء یابد. در این پروژه شرکت‌هایی نظیر تالز، پلی‌تک و تی‌ان‌او همکاری دارند. مؤسسه Imec علاوه براستفاده از این پروژه برای توسعه فتونیک سیلیکونی از اسکنرهای لیتوگرافی غوطه‌وری 193 نانومتری نیز برای این کار استفاده می‌کند. با استفاده از پلت فرم Imec، شرکت تالز موفق به ترکیب پرتوهای مختلف لیزر با یکدیگر شده است. با این فناوری می‌توان منابع لیزر با انرژی و توان بالا تولید کرد و از آن در صنایع مختلف نظیر فیزیک بنیادی یا حسگری استفاده کرد. چنین دستاوردی می‌تواند مرزهای نشرکننده لیزر را تغییر داده و با استفاده از تقویت‌کننده‌های مختلف، کارایی و خروجی این لیزرها را افزایش داد. مرکز Leti، پیش از این به تنهایی موفق به توسعه پلتفرم فتونیک جدیدی مبتنی بر ویفر SOI 200 میلیمتری شده بود. با روشی که این مرکز ارائه داده می‌توان الگودهی‌های مختلفی روی سطح ایجاد کرد و در نتیجه قطعات مختلفی نظیر فتودیود با قابلیت تنظیم گرمایی روی سطح ایجاد کرد. این فناوری جدید به محققان این مرکز امکان ایجاد ساختارهای کوچکتری را روی سطح می‌دهد. انتهای پیام
این صفحه را در گوگل محبوب کنید
[ارسال شده از: ایسنا]
[مشاهده در: www.isna.ir]
[تعداد بازديد از اين مطلب: 26]
-
علم و فناوری
پربازدیدترینها