واضح آرشیو وب فارسی:فان پاتوق: گروه خبری GSM: يك پژوهشگر روسي توانستالگوهاي ليتوگرافي به ضخامت تنها 6 نانومتر و با فاصله 14 نانومتر از هم روي سطحايجاد کند. فاصله 14 نانومتري ميان اين الگوها ظرفيت حافظه.ها را در ابزارهايمختلفي همچون نسل جديد گوشي.هاي تلفن همراه ده برابر افزايش خواهد داد.
به گزارش سرويس فناوريخبرگزاري دانشجويان ايران ايسنا:وديم سيدورکين از يک ميکروسکوپ يونهليون(HIM) براي ايجاد يون.هاي هليوم بهره برد و با استفاده از اين روش توانستنقاطي به قطر تنها 6 نانومتر بکشد.
وي كه مدرک دکتراي خود را از دانشگاه TU Delft دريافت كرده است، ساخت کوچک.ترين ساختارهاي ممکن را با استفاده از تابش يونيو الکتروني بررسي کرد. در حال حاضر در بخش صنعتي از نور براي ايجاد ساختارهاي بسيارکوچک روي مواد نيمه.رسانا(مثلاً در توليد تراشه.هاي رايانه.اي) استفاده مي.شود.
در ايجاد نانوساختارها نه تنها قطر نقاط وخطوط منفردي که مي.توان ايجاد کرد مهم است، بلکه فاصله ميان اين نقاط و خطوط نيز ازاهميت بالايي برخوردار است. اين امر براي توليد حافظه.هاي با دانسيته بالاتر درابزارهايي همچون گوشي.هاي تلفن همراه ضروري است. فاصله 14 نانومتري که سيدورکين بهآن دست يافته است، مي.تواند ظرفيت اين ابزارها را تا 10 برابر افزايش دهد. اينپژوهشگر روسي براي اين.که بتواند فاصله ميان الگوها را به کمترين مقدار خود برساند،از يک لاک بسيار نازک سيلسِکوئي.اُکسان هيدروژن(HSQ) که توسط محققان دانشگاه Delft به.طور خاص براي همين منظور توسعه يافته بود، استفاده کرد.
سيدورکين عملکرد تابش يون هليوم را باتابش الکتروني مقايسه کرده و دريافت که با استفاده از يون هليوم مي.توان ساختارهاينزديک.تر به هم روي سطح حک كرد. از آن.جايي که يون.هاي هليوم سنگين.تر و بزرگ.تر ازالکترون هستند، مي.توانند با سرعت کمتري به روي سطح شليک شده و در عين حال همانمقدار انرژي برخوردي را داشته باشند. همچنين اين يون.ها آسيب کمتري به ماده اطرافوارد مي.کنند، زيرا در برگشت از سطح فاصله کمتري طي کرده و ميزان نفوذ افقي آن.هادر خود ساختار ايجاد شده کمتر است. براي ايجاد يک تراشه رايانه.اي، ابتدا ويفرهاي سيليکوني با لايه نازکي از ماده لاکي که «ماده مقاوم نوري» ناميده مي.شود، پوشانده مي.شوند. سپس الگوي مورد نظر با استفاده از يک ليزر، تابش الکتروني يا تابش يوني، روي اين ماده لاکي تابانده مي.شود. تابش.هاي يوني و الکتروني نسبت به تابش.هاي ليزري کندتر هستند، اما قابليت ايجاد الگوهاي کوچک.تري را روي سطح ماده لاکي دارند. سپس بخش.هايي از ماده لاکي که در معرض تابش قرار نگرفته است، از سطح جدا شده و فقط ساختار الگوي مورد نظر روي سطح باقي مي.ماند.
این صفحه را در گوگل محبوب کنید
[ارسال شده از: فان پاتوق]
[تعداد بازديد از اين مطلب: 201]