محبوبترینها
آشنایی با سایت قو ایران بهترین سایت آگهی و تبلیغات در کشور
بهترین شرکت‌های مهندسی در آلمان
صفر تا صد حق بیمه 1403! فرمول محاسبه حق بیمه
نقش هدایای سازمانی در افزایش انگیزه و تعهد کارکنان
کلینیک پروتز و ساخت اندام مصنوعی دکتر اجرائی
چگونه می‌توانیم با ترانسفر وایز پول جابجا کنیم؟
بهترین مدل‌های [صندلی گیمینگ] براساس نقد و بررسی کاربران
مشاوره حقوقی تلفنی با کمترین هزینه
مشاوره حقوقی تلفنی با کمترین هزینه
صفحه اول
آرشیو مطالب
ورود/عضویت
هواشناسی
قیمت طلا سکه و ارز
قیمت خودرو
مطالب در سایت شما
تبادل لینک
ارتباط با ما
مطالب سایت سرگرمی سبک زندگی سینما و تلویزیون فرهنگ و هنر پزشکی و سلامت اجتماع و خانواده تصویری دین و اندیشه ورزش اقتصادی سیاسی حوادث علم و فناوری سایتهای دانلود گوناگون
مطالب سایت سرگرمی سبک زندگی سینما و تلویزیون فرهنگ و هنر پزشکی و سلامت اجتماع و خانواده تصویری دین و اندیشه ورزش اقتصادی سیاسی حوادث علم و فناوری سایتهای دانلود گوناگون
آمار وبسایت
تعداد کل بازدیدها :
1803933499
فناوری EVU در تولید تراشه، اینتل را به برنامه دو ساله قانون مور باز می گرداند
واضح آرشیو وب فارسی:هدانا: اینتل به عنوان یکی از بزرگ ترین تولیدکنندگان تراشه های پردازشی، در سال های اخیر با مشکلاتی دست به گریبان بوده و همین امر باعث شده تا عرضه ی نسل جدید تراشه های این کمپانی مبتنی بر لیتوگرافی کمتری با تاخیر نیم ساله همراه شود. اما اینتل امیدوار است تا تراشه های مبتنی بر لیتوگرافی ۷ نانومتری خود را طبق برنامه و پس از دو سال از زمان عرضه نمونه های ۱۰ نانومتری روانه ی بازار کند.اینتل یکی از پیشروترین کمپانی ها در زمینه ی تولید تراشه های رایانه ای است، اما پیش آمدن مشکلات در سال های اخیر باعث شده تا روند بروزرسانی محصولات این کمپانی در سال های اخیر با تاخیر روبرو شود. همانطور که می دانید، بنابر قانون مور، تعداد ترانزیستورهای مورد استفاده در پردازنده ها هر دوسال یکبار بیش از دو برابر می شود، حال آنکه محدودیت های فیزیکی موجود پیش روی سیلیکون، باعث شده تا اینتل در بروزرسانی تراشه های خود با تاخیر عمل کرده و نتواند در بازه ی زمانی دو ساله مورد اشاره، تراشه های نسل جدید خود را با لیتوگرافی جدید تولید و روانه ی بازار کند . مشکلات موجود باعث شده تا اینتل به جای بروزرسانی تراشه های خود در بازه ی دو ساله، محصولات جدیدش را در فاصله ی دو نیم ساله روانه ی بازار کند. این موضوع درباره ی تراشه های دو نسل آخر اینتل که مبتنی بر لیتوگرافی ۱۴ نانومتری روانه ی بازار شده اند، صادق بوده و انتظار می رود تراشه های مبتنی بر لیتوگرافی ۱۰ نانومتری نیز از چنین فاصله ی زمانی پیش از عرضه برخوردار باشند. اما با وجود مشکلات ایجاد شده، اینتل امیدوار است تا در تراشه های مبتنی بر لیتوگرافی ۷ نانومتری به تاخیر های ایجاد شده پایان داده و بتواند فاصله ی دو ساله ی اشاره شده در قانون مور را رعایت کند. استیسی اسمیت، مدیر ارشد مالی اینتل در جریان سخنرانی خود در کنفرانس رسانه، ارتباطات و فناوری مورگان استنلی، چنین اظهار نظر کرده است: ما دوست داریم تا بازه ی دو ساله را برای عرضه ی تراشه های خود رعایت کنیم، اما فرآیند بروزرسانی و انتقال به فناوری جدید تاکنون ممکن نبوده است. ما تراشه های مبتنی بر لیتوگرافی ۷ نانومتری را به عنوان نسلی که می توانیم دوباره به بازه ی بروزرسانی دو ساله برگردیم، در نظر داریم، چراکه احتمالا فناوری های توسعه یافته تا آن زمان، امکان بازگشت به بازه ی زمانی دو ساله را فراهم خواهند کرد. در جریان تولید تراشه های مبتنی بر لیتوگرافی ۱۴ نانومتری که شامل دو نسل برادول و اسکای لیک است، وجود مشکلات فنی باعث شد تا اینتل نتواند براساس زمانبندی موجود پیش رفته و محصولات خود را با تاخیر روانه ی بازار کند. انتظار می رود در پایان سال جاری میلادی شاهد رونمایی و عرضه ی تراشه های موسوم به کیبی لیک (Kaby Lake) باشیم. تاخیر های ایجاد شده و ایجاد وقفه ی ۲.۵ ساله باعث شده فروش عمده ی این تراشه ها نیز با چالش هایی همراه شود. براساس نقشه ی راه تعیین شده توسط اینتل، این کمپانی تراشه های مبتنی بر لیتوگرافی ۱۰ نانومتر خود را که کانن لیک (Cannon Lake) نام دارد، در نیمه ی دوم سال ۲۰۱۷ میلادی روانه ی بازار خواهد کرد. بازگشت به بازه ی زمانی پیشنهاد داده شده در قانون مور به دلیل پیشرفت های صورت گرفته در فناوری Extreme Ultraviolet Lithography است که به اختصار EUV نیز خوانده می شود این فناوری لیتوگرافی مبتنی بر اشعه ی ماورا بفش خوانده می شود. گمانه زنی ها حکایت از این دارد که این فناوری در زمینه ی تولید تراشه های مبتنی بر لیتوگرافی ۷ نانومتری مورد استفاده قرار خواهند گرفت. در این فناوری از اشعه های ماورا بنفش برای انتقال الگوی مدار روی ویفرهای سیلیکونی استفاده می شود. این روش به این دلیل مورد استفاده قرار نمی گیرد که هنوز ابزار های سخت افزاری لازم وجود خارجی ندارند. براساس اطلاعات ارائه شده توسط اسمیت، کاهش لیتوگرافی در تراشه های تولید شده، امکان بروز خطا را بیش از پیش افزایش می دهد. در حال حاضر اینتل از روش هایی نظیر لیتوگرافی چند الگویی برای جلوگیری از بروز خطا استفاده می کند که یکی از موانع کاهش لیتوگرافی تراشه ها است. اسمیت به این موضوع اشاره کرده که شاید فناوری EUV پیش از زمان عرضه ی تراشه های ۷ نانومتری اینتل در دسترس بوده و بتوان از آن برای تولید تراشه های ۱۰ نانومتری نیز استفاده کرد، اما اینتل برای استفاده از این فناوری در تراشه های ۷ نانومتری خود برنامه ریزی کرده است. اینتل پیشتازی در زمینه ی تولید تراشه ها را در فرآیند انتقال به لیتوگرافی ۱۴ نانومتری به کمپانی های سامسونگ و TSMC تایوان واگذار کرد، اما انتظار می رود در لیتوگرافی ۱۰ نانومتری شاهد بازگشت اینتل و پیشرو بودن این کمپانی همچون گذشته باشیم. پیروی از قانون مور برای اینتل هزینه ی بالایی را در پی دارد، بطوریکه برآوردهای انجام شده توسط اینتل نشان از این دارند که این کمپانی برای همپا شدن با قانون مور در ۱۰ سال آینده، نیاز به بودجه ای ۲۷۰ میلیارد دلاری در زمینه ی تحقیقات و توسعه دارد. این رقم بسیار بیشتر از ۱۰۴ میلیارد دلاری است که اینتل در سال ۲۰۱۱ برای هزینه کردن در یک دهه ی پیش رو محاسبه کرده بود. گمانه ی جدید با در نظر گرفتن هزینه ی ویفرها، نیروی کار و فناوری های جدیدی نظیر EUV است. در کنار فناوری هایی نظیر EUV، راهکارهای دیگری نیز به اینتل کمک خواهند کرد تا تراشه های سریع تر و بهره وری را تولید کنند. برای مثال می توان به جایگزین کردن گالیوم نیترید با سیلیکون در تراشه ها اشاره کرد.
یکشنبه ، ۱۶اسفند۱۳۹۴
[مشاهده متن کامل خبر]
این صفحه را در گوگل محبوب کنید
[ارسال شده از: هدانا]
[مشاهده در: www.hodana.ir]
[تعداد بازديد از اين مطلب: 120]
-
گوناگون
پربازدیدترینها